鈾氧化物研磨分散機(jī)

鈾的氧化物，從鈾礦物學(xué)和其直接應(yīng)用來(lái)看，都有著特別重要的意義，因?yàn)椋瑤缀跛械拟櫟V物中，鈾均以氧化物的形式存在，在工藝產(chǎn)品的二氧化鈾又是目前zui廣泛用于動(dòng)力反應(yīng)堆的核燃料。鈾-氧化體系是*復(fù)雜的二元體系之一。

鈾在不同情況下，可以生成U(Ⅲ)到U(Ⅵ)的各種鈾化合物,其中*穩(wěn)定的是U(Ⅵ)的化合物,其次是U(Ⅳ)的化合物。主要化合物有：氧化物、氟化物、碳化物、硅化物。

有兩種種轉(zhuǎn)化方法:濕法和干法。濕法是先用沉淀法使硝酸鈾酞生成三碳酸鉑酞餒、草酸鈾和過(guò)氧化鈾沉淀，然后再加熱分解成氧化物干法是采用流化床，把硝酸鈾酞直接脫水、脫硝轉(zhuǎn)化成三氧化鈾再用氫還原成二氧化鈾。還可采月J微波加熱直接脫硝轉(zhuǎn)化成三氧化鈾或八氧化三鈾。金屬鈾常用二氧化鈾氟化成四氟化鈾后，用金屬鈣還原而得。

SID技術(shù)，獨(dú)特創(chuàng)意，融化理念。將SID高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)GM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)（均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán)）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)"、“研磨均質(zhì)機(jī)"、“研磨乳化機(jī)"。

GMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

鈾氧化物研磨分散機(jī)設(shè)備選型表：